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이온임플란트 필라멘트
  • 용도
    반도체 제조공정 중 활성영역(소스,드레인) 부분에 이온을 주입시켜 다이오드 특성 등을 만드는 이온임플란트 공정에서 사용되는 이온빔을 발생하는 필라멘트이다.
  • 특징
    - 고순도의 텅스텐 재료사용 및 정밀치수 관리
    - 열처리 가공으로 고수명 유지